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pecvd石墨舟饱和的简述
jcadmin   |   2020-08-18 10:29:26

pecvd石墨舟饱和的简述


石墨舟不同饱和方式的差异

饱和时使用假片 饱和充分:

1、生产成本高;

2、饱和环境和实际镀膜环境相同:硅片的存在会形成更大面积的电场,产生更多等离子体,石墨舟内壁上沉积的氮化硅膜更充分。

饱和时不使用假片 饱和不够充分:

1、生产成本低;

2、饱和程度不充分,前期镀膜均匀性较差,色差片较多。


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